識別
商品名 | トリメチルアルミニウム |
IUPAC名 | トリメチルアルマン |
分子構造 | |
CASレジストリ番号 | 75-24-1 |
MDL番号 | MFCD00008252 |
同義語 | トリメチルアルミニウム 75-24-1 トリメチルアルミニウム アルミニウム、トリメチル- トリメチルアルマン トリメチルアラン (CH3)3Al AV210LG46J トリメチルアルミニウム、電気。 グラム アルミニウムトリメチル MFCD00008252 トリメチルアルミニウム アルミニウムトリメタン化物 C3H9Al EINECS 200-853-0 ブラウン 3587197 UNII-AV210LG46J トリメチルアルミニウム アルメ3 メ3アル トリメチルアルミニウム トリメチルアルミニウム、97% Al(Me)3 EC 200-853-0 Al(CH3)3 4-04-00-04397(Beilsteinハンドブックリファレンス) トリメチルアルミニウム[MI] ヘキサン中のトリメチルアルミニウム 2M トリメチルアルミニウム 2M トルエン溶液 DTXSID9058787 トリメチルアルミニウム、ヘプタン中 1M トリメチルアルミニウム、ヘプタン中 2M トリメチルアルミニウム、トルエン中 2M AKOS015915463 トリメチルアルミニウム (AL(CH3)3) トリメチルアルミニウム、ヘキサン中 25% w/w UN 1103 FT-0659349 T0782 T1575 A838359 Q416321 トリメチルアルミニウム、蒸着システム用にパッケージ化 トリメチルアルミニウム、電子グレード、>=99.9999% (超高純度) トリメチルアルミニウム、電気化学的性質(99.999+%-Al)、CVD/ALD 用の 50 ml 電解研磨 Swagelok シリンダー (96-1077) 入り |
分子式 | C3H9Al |
分子量 | 72.09 |
InChI | InChI=1S/3CH3.Al/h3*1H3 |
InChIキー | JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N |
異性体 SMILES | C[Al](C)C |
物理データ
データなし
融点、℃ |
15 |
15.4 |
15.1 |
14.5 – 15 |
15 |
0 |
15.2 |
沸点、℃ | 圧力(沸点)、トル |
123.5 – 125 | |
80 | |
125 | |
48 – 52 | 20 |
129 – 130 | |
66 – 68 | 100 |
126 | 760 |
密度、g・cm-3 | 基準温度、°C | 測定温度、℃ |
0.7478 | | 25 |
0.877 | | -10 |
0.752 | 4 | 20 |
説明(アソシエーション(MCS)) | パートナー(協会(MCS)) |
吸着 | AgNO3 |
| TiCl4 活性化 MgCl2 膜 |
吸着 | インSb(100) |
スペクトル
説明(NMRスペクトロスコピー) | 核(NMRスペクトロスコピー) | 溶媒(NMRスペクトロスコピー) | 温度(NMR分光法)、℃ | 周波数(NMR分光法)、MHz |
化学シフト、スペクトル | 1H | テトラヒドロフラン-d8、トルエン | | 400 |
化学シフト、スペクトル | 1H | テトラヒドロフラン-d8、ヘキサン | | |
化学シフト、スペクトル | 1H | ベンゼン-d6、ヘキサン | | |
化学シフト、スペクトル | 1H | ベンゼン-d6 | 26.84 | 400.1 |
説明(IRスペクトロスコピー) | 溶媒(IRスペクトロスコピー) | コメント(IR分光学) |
スペクトラム | トルエン | 2800 cm **-1 – 3700 cm **-1 |
バンド | トルエン | 2800 cm **-1 – 3700 cm **-1 |
スペクトラム | 固体マトリックス | 400 cm **-1 – 4000 cm **-1 |
バンド | 固体マトリックス | 400 cm **-1 – 4000 cm **-1 |
スペクトラム | さらなる溶媒 | 400 cm **-1 – 4000 cm **-1 |
説明(UV / VIS分光法) | 溶媒(UV / VIS分光法) | コメント(UV / VIS分光法) |
スペクトラム | ガス | 190 nm~310 nm |
合成経路(ROS)
トリメチルアルミニウムの合成経路 (ROS) CAS#: 75-24-1
の賃貸条件 | 産出 |
(1,1'-ビス(ジフェニルホスフィノ)フェロセン)パラジウム(II)ジクロリドを使用。 炭酸カリウム テトラヒドロフラン中、60℃。 4時間。 不活性雰囲気; | 視聴者の38%が |
二酢酸パラジウムを使用。 トリス-(o-トリル)ホスフィン テトラヒドロフラン中、20℃。 3時間。 不活性雰囲気; 位置選択的反応; | 視聴者の38%が |
ビス-トリフェニルホスフィン-塩化パラジウム(II)を使用。 炭酸カリウム; トリフェニルホスフィン テトラヒドロフラン中、60℃。 3時間。 不活性雰囲気; 位置選択的反応; | 視聴者の38%が |
ビス-トリフェニルホスフィン-塩化パラジウム(II)を使用。 炭酸カリウム; トリフェニルホスフィン テトラヒドロフラン中、60℃。 3時間。 不活性雰囲気;
実験手順 一般手順: 乾燥アルゴン雰囲気下、Pd(PPh3)2Cl2 (0.0035 g、0.005 mmol)、PPh3 (0.0026 g、0.0100 mmol)、および K2CO3 (0.138 g、1.0 mmol) の混合物を THF (2 mL)中で撹拌しました。 )。 次いで、AlMe3(0.6mmol)およびプロパルギルアセテート(0.50mmol)をそれぞれ添加した。 混合物を3℃で0.6〜0.50時間撹拌した。 反応終了後、sat. NH4Cl水溶液(5mL)を加え、EtOAc(3×15mL)で抽出した。 合わせたEtOAc層を乾燥させ(Na 2 SO 4 )、濾過し、真空下で蒸発させた。 粗生成物をシリカゲルのクロマトグラフィー(ヘキサンまたはEtOAcおよびヘキサン)に付して、対応するアレン生成物2または5を得た。 | 視聴者の38%が |
塩化ビス(トリフェニルホスフィン)ニッケル(II)を使用。 炭酸カリウム; トリフェニルホスフィン テトラヒドロフラン中、60℃。 6時間。 不活性雰囲気; | 視聴者の38%が |
安全と危険
ピクトグラム | |
シグナル | 危険 |
GHSのハザード・ステートメント | H250 (98.72%): 空気に触れると自然発火 [危険性自然発火性液体] H260 (98.4%): 水と接触すると可燃性ガスを放出し、自然発火する可能性がある [水と接触すると可燃性ガスを放出する危険物質および混合物] H314(98.72%):重度の皮膚熱傷および眼の損傷を引き起こす[危険皮膚腐食性/刺激性] H318(34.29%):眼に重大な損傷を与える[重大な眼の損傷/眼の刺激] |
予防的声明コード | P210、P222、P223、P231、P231+P232、P233、P260、P264、P264+P265、P280、P301+P330+P331、P302+P335+P334、P302+P361+P354、P304+P340、P305+P354 + P338、P316、P317、P321、P363、P370+P378、P402+P404、P405、およびP501 (各Pコードに対応するステートメントは、 GHS分類 ページ。) |
その他のデータ
ドラッグライクネス | |
リピンスキールールコンポーネント | |
分子量 | 72.086 |
ログP | 1.584 |
HBA | 0 |
HBD | 0 |
一致するリピンスキー規則 | 4 |
Veberルールコンポーネント | |
極表面積(PSA) | 0 |
回転可能な債券(RotB) | 0 |
一致するVeberルール | 2 |
使用パターン |
トリメチルアルミニウム CAS#: 75-24-1 は、MOCVD 法の前駆体材料として機能し、酸化アルミニウムなどの金属酸化膜の堆積に使用されます。 一部の有機合成反応では、トリメチルアルミニウムが触媒の前駆体として使用され、特定の反応を触媒する役割を果たします。 |
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承認された製造業者 |
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