tert-ブチル 2-[4-(ジフェニルスルホニウム)フェノキシ]アセテート、ノナフラート塩 CAS番号: 857285-80-4; ChemWhat コー​​ド:1499775

識別物理データSpectra
合成経路(ROS)安全と危険その他のデータ

識別

製品名 トリフェニルスルホニウム塩と1-(ジフルオロスルホメチル)-2,2,2-トリフルオロエチルトリシクロ[3.3.1.13,7]デカン-1-カルボキシレートの塩(1:1)
IUPAC名[4-[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]-2-oxoethoxy]phenyl]-diphenylsulfanium;1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate
分子構造tert-ブチル 2-[4-(ジフェニルスルホニウム)フェノキシ]アセテート、ノナフラート塩 CAS 857285-80-4 の構造
CASレジストリ番号 857285-80-4
EINECS番号データなし
MDL番号データなし
ベイルスタイン登録番号データなし
同義語(4-(2-(tert-butoxy)-2-oxoethoxy)phenyl)diphenylsulfonium 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate(4-(2-(tert-butoxy)-2-oxoethoxy)phenyl)diphenylsulfonium nonafluoro-n-butane-sulfonate4-tert-butoxycarbonylmethyloxyphenyldiphenylsulfonium nonafluoro-n-butanesulfonatep-t-butoxycarbonylmethoxyphenyldiphenylsulfonium nonafluoro-n-butanesulfonate
分子式C28H25F9O6S2
分子量692.604
InChIInChI=1S/C24H25O3S.C4HF9O3S/c1-24(2,3)27-23(25)18-26-19-14-16-22(17-15-19)28(20-10-6-4-7-11-20)21-12-8-5-9-13-21;5-1(6,3(9,10)11)2(7,8)4(12,13)17(14,15)16/h4-17H,18H2,1-3H3;(H,14,15,16)/q+1;/p-1
InChIキーQGJXWNMBTQGAFT-UHFFFAOYSA-M
標準的な SMILESCC(C)(C)OC(=O)COc1ccc(S+c2ccccc2)cc1.O=S(=O)([O-])C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F
特許情報
データなし

物理データ

外観白から灰白色の粉末
データなし
引火点データなし
屈折率データなし
感度データなし

Spectra

データなし

合成経路(ROS)

データなし

安全と危険

GHSのハザード・ステートメント未分類

その他のデータ

輸送手段すべての輸送モードでNONH
室温下で光を避けます
HSコードデータなし
Storage室温下で光を避けます
貯蔵寿命創業2周年
市場価格USD
ドラッグライクネス
リピンスキールールコンポーネント
分子量692.621
ログP9.669
HBA5
HBD0
一致するリピンスキー規則2
Veberルールコンポーネント
極表面積(PSA)51.21
回転可能な債券(RotB)12
一致するVeberルール1
使用パターン
半導体リソグラフィ用光酸発生装置(PAG)
CAS 857285-80-4の主な用途は、化学増幅型フォトレジストにおける光酸発生剤(PAG)としての利用です。スルホニウムカチオンは、紫外線、深紫外線、電子ビーム、または極紫外線に曝されると強酸を生成し、半導体製造における高解像度パターン形成を可能にします。
高度なフォトレジスト配合
用途:KrF(248 nm)フォトレジスト、ArF(193 nm)フォトレジスト、EUVフォトレジスト、高解像度マイクロ・ナノパターニング材料。ノナフラート対イオンは、高度なリソグラフィープロセスにおいて重要な、強い酸性、優れた熱安定性、および制御された酸拡散を提供します。
マイクロエレクトロニクスおよびMEMS製造
電子材料研究

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