Benzeneacetonitrile, 2-methyl-α-[2-[[(propylsulfonyl)oxy]imino]-3(2H)-thienylidene]- CAS 852246-55-0; ChemWhat コード：1415150
識別
| 商品名 | WI-PAG31704 |
| IUPAC名 | [[3-[シアノ-(2-メチルフェニル)メチリデン]チオフェン-2-イリデン]アミノ]プロパン-1-スルホネート |
| 分子構造 |  |
| CASレジストリ番号 | 852246-55-0 |
| 同義語 | 852246-55-0 ベンゼンアセトニトリル、2-メチル-α-[2-[[(プロピルスルホニル)オキシ]イミノ]-3(2H)-チエニリデン]- ベンゼンアセトニトリル、2-メチル-アルファ-[2-[[(プロピルスルホニル)オキシ]イミノ]-3(2H)-チエニリデン]- DTXSID60889217 [[3-[シアノ-(2-メチルフェニル)メチリデン]チオフェン-2-イリデン]アミノ]プロパン-1-スルホネート [(Z)-[(3Z)-3-[cyano-(2-methylphenyl)methylidene]thiophen-2-ylidene]amino] propane-1-sulfonate |
| 分子式 | C16H16N2O3S2 |
| 分子量 | 348.4 |
| InChI | InChI=1S/C16H16N2O3S2/c1-3-10-23(19,20)21-18-16-14(8-9-22-16)15(11-17)13-7-5-4-6-12(13)2/h4-9H,3,10H2,1-2H3 |
| InChIキー | PYKXYIPEUCVBIB-UHFFFAOYSA-N |
| 異性体 SMILES | CCCS(=O)(=O)ON=C1C(=C(C#N)C2=CC=CC=C2C)C=CS1 |
物理データ
| 外観 | 黄色粉末 |
| お肌にいいもの | 99.80％分 |
| 水 | ≤ 0.05％ |
| 金属イオン（ppb） | AI : ≤100 CA : ≤200 CR : ≤200 CU : ≤100 FE : ≤200 K : ≤100 MG ：≦100 MN ：≤100 NA ：≦200 |
スペクトル
| 説明（UV / VIS分光法） | 溶媒（UV / VIS分光法） |
| スペクトラム | アセトニトリル |
合成経路（ROS）
データなし
安全と危険
データなし
その他のデータ
| 輸送手段 | 室温で長期間保管してください。 密封され光から遠ざけられる |
| HSコード | |
| Storage | 室温で長期間保管してください。 密封され光から遠ざけられる |
| 貯蔵寿命 | 1年 |
| ドラッグライクネス | |
| リピンスキールールコンポーネント | |
| 分子量 | 348.447 |
| ログP | 3.36 |
| HBA | 3 |
| HBD | 0 |
| 一致するリピンスキー規則 | 4 |
| Veberルールコンポーネント | |
| 極表面積（PSA） | 113.2 |
| 回転可能な債券（RotB） | 5 |
| 一致するVeberルール | 2 |
| 使用パターン |
| ベンゼンアセトニトリル、2-メチル-α-[2-[[(プロピルスルホニル)オキシ]イミノ]-3(2H)-チエニリデン]-は、OLED およびその他の電子分野で使用できます。 また、紫外線 (UV) 光に対する感度を高めるためにフォトレジストに添加されます。 レジストが UV 光にさらされると、PAG 103 が酸を生成し、フォトレジスト内で化学反応を開始します。 UV 光にさらされると、PAG 103 は酸を生成します。 この酸はフォトレジスト内で触媒として作用し、架橋、重合、分解などの反応を促進します。 UV 光にさらされると、PAG 103 は酸を生成します。 この酸はフォトレジスト内で触媒として作用し、架橋、重合、分解などの反応を促進します。 |
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