ジメチルフェニルホスフィン CAS#: 672-66-2; ChemWhat コード：38297
識別
| 商品名 | ジメチルフェニルホスフィン |
| IUPAC名 | ジメチル（フェニル）ホスファン |
| 分子構造 |  |
| CASレジストリ番号 | 672-66-2 |
| EINECS番号 | 211-595-3 |
| MDL番号 | MFCD00008509 |
| ベイルスタイン登録番号 | 742064 |
| 同義語 | ジメチル（フェニル）ホスフィンホスフィン、ジメチルフェニル-ジメチル-フェニル-ホスフィンフェニルジメチルホスフィンPMe2Ph |
| 分子式 | C8H11P |
| 分子量 | 138.147 |
| InChI | InChI=1S/C8H11P/c1-9(2)8-6-4-3-5-7-8/h3-7H,1-2H3 |
| InChIキー | HASCQPSFPAKVEK-UHFFFAOYSA-N |
| 標準的な SMILES | CP（C）c1ccccc1 |
| 特許情報 | ||
| 特許ID | 役職 | 刊行日 |
| CN111072544 | 2、2、3-三置換テトラヒドロピロール誘導体およびその合成方法 | 2020 |
| US2013 / 116434 | Z選択的オレフィンメタセシス用のタングステンオキソアルキリデン錯体 | 2013 |
| EP1201634 | 共役ジエンをテロメライズするプロセス | 2002 |
物理データ
| 外観 | 無色透明の液体 |
| データなし | |
| 引火点 | データなし |
| 屈折率 | 1.5610-1.5660@20°C |
| 感度 | エアセンシティブ |
| 融点、℃ |
| 116 – 117 |
| 沸点、℃ | 圧力（沸点）、トル |
| 69 | 8 |
| 110 – 130 | 50 |
| 100 – 102 | |
| 41 – 45 | 0.1 |
| 70 – 71 | 15 |
| 屈折率 | 波長（屈折率）、nm | 温度（屈折率）、°C |
| 1.5643 | 589 | 21 |
| 1.565 | 589 | 20 |
| 1.5673 | 589 | 19.5 |
| 密度、g・cm-3 | 基準温度、°C | 測定温度、℃ |
| 0.9662 | 4 | 20 |
| 0.967 | 4 | 20 |
| 0.9768 | 11 |
| 説明（アソシエーション（MCS）） | パートナー（協会（MCS）） |
| 吸着 | 酸化アルミニウム（III） |
| 吸着 | γ-アル2O3 |
スペクトル
| 説明（NMRスペクトロスコピー） | 核（NMRスペクトロスコピー） | 溶媒（NMRスペクトロスコピー） | 温度（ＮＭＲ分光法）、℃ | 周波数（ＮＭＲ分光法）、ＭＨｚ |
| 化学シフト、スペクトル | 31P | [D3]アセトニトリル | 162 | |
| スペクトラム | 31P | ヘキサジュウテロベンゼン | 25 | 202 |
| 化学シフト | 1H | 22 | 500 | |
| 化学シフト | 31P | クロロホルム-d1 | 121.5 | |
| 化学シフト、スペクトル | 31P | クロロホルム-d1 | 25 | 121.5 |
| 説明（IRスペクトロスコピー） | 溶媒（IRスペクトロスコピー） | コメント（IR分光学） |
| バンド | ジクロロメタン | |
| バンド | きちんとした（無溶剤） | 1483 – 694 cm **（-1） |
| バンド | ベンゼン | 1587 – 1570 cm **（-1） |
| スペクトラム | ベンゼン | 1620 – 1550 cm **（-1） |
| バンド | シクロヘキサン | 1589 – 1572 cm **（-1） |
| ジメチルフェニルホスフィンCAS＃：672-66-2 FTIR |  |
| 説明（質量分析） |
| スペクトル |
| エレクトロスプレーイオン化（ESI）、高分解能質量分析（HRMS）、飛行時間型質量分析（TOFMS）、スペクトル |
| 説明（UV / VIS分光法） | 溶媒（UV / VIS分光法） | コメント（UV / VIS分光法） | 吸収極大（UV / VIS）、nm | 内線 係数、l・mol-1cm-1 |
| 吸収極大 | アセトニトリル | 250、346 | 1230、263 | |
| スペクトラム | シクロヘキサン | 200 - 330 nm | ||
| 吸収極大 | シクロヘキサン | 251.19 | 5600 | |
| 吸収極大 | シクロヘキサン | 251.19 | 5550 | |
| UV / VIS |
| 説明（ESR分光法） |
| スペクトラム |
| ENDOR（電子核二重共鳴） |
| ESR |
| 説明（ラマン分光法） | コメント（ラマン分光法） |
| バンド | シクロヘキサン |
| ラマン強度 | |
| バンド |
合成経路（ROS）
| の賃貸条件 | 産出 |
| ポリメチルヒドロシロキサン In 150℃でニート（無溶剤）。 10時間; 試薬/触媒; 温度; 不活性な雰囲気; グリーンケミストリー; | 視聴者の３８%が |
| フェニルシランを使用した場合110℃でニート（溶媒なし）。 1.75時間; 試薬/触媒; 温度; 時間; 不活性な雰囲気; グリーンケミストリー; | 視聴者の３８%が |
| [AlH3（トリエチルアミン）]を用いてヘキサン中20℃で; 0.166667時間; 不活性な雰囲気; シュレンク技術; | 98％Chromat。 |
| ヘキシルシランを使用。 70℃のトルエン中のトリフルオロメタンスルホン酸; 24時間; 不活性な雰囲気; 密封されたチューブ; 化学選択的反応; | 94％Spectr。 |
| メタンスルホン酸を使って; 1,1,3,3-テトラメチルジシロキサントルエン中100℃; 4.5時間; 不活性な雰囲気; シュレンク技術; |
安全と危険
| ピクトグラム |   |
| シグナル | 危険 |
| GHSのハザード・ステートメント | H226（100％）：可燃性液体および蒸気[警告可燃性液体] H315（97.67％）：皮膚刺激を引き起こす[警告皮膚腐食性/刺激性] H319（97.67％）：重大な眼刺激を引き起こす[警告重大な眼の損傷/眼の刺激] H335（97.67％）：呼吸器への刺激を引き起こす可能性がある[警告特定標的臓器への毒性、 呼吸器の炎症] 情報は、不純物、添加物、およびその他の要因に応じて通知ごとに異なる場合があります。 |
| 予防的声明コード | P210、P233、P240、P241、P242、P243、P261、P264、P264 + P265、P271、P280、P302 + P352、P303 + P361 + P353、P304 + P340、P305 + P351 + P338、P319、P321、P332 + P317、P337 + P317、P362 + P364、P370 + P378、P403 + P233、P403 + P235、P405、およびP501 （各Pコードに対応するステートメントは、 GHS分類 ページ。） |
その他のデータ
| 輸送手段 | 室温下で光を避けます |
| HSコード | 290621 |
| Storage | 室温下で光を避けます |
| 貯蔵寿命 | 6か月間 |
| 市場価格 | USD 25 / g |
| ドラッグライクネス | |
| リピンスキールールコンポーネント | |
| 分子量 | 138.149 |
| ログP | 3.037 |
| HBA | 0 |
| HBD | 0 |
| 一致するリピンスキー規則 | 4 |
| Veberルールコンポーネント | |
| 極表面積（PSA） | 13.59 |
| 回転可能な債券（RotB） | 1 |
| 一致するVeberルール | 2 |
| 使用パターン |
| ジメチルフェニルホスフィンCAS＃：672-66-2リン配位子として一般的に使用されます。 |
| 2H-インダゾール合成用の遷移金属触媒の成分 |
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